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catalyst箱田 照幸; Chowdhury, M. A. Z.*; 島田 明彦; 広田 耕一
Plasma Chemistry and Plasma Processing, 29(6), p.549 - 557, 2009/12
被引用回数：5 パーセンタイル：23.87(Engineering, Chemical)ガス中の臭気物質の分解・脱臭技術の開発のために、ごみ処理場などのガス中で検出される硫化ジメチル(DMS)の電子ビーム照射による分解挙動を調べるとともに、分解促進のための触媒併用処理を試みた。その結果、DMSの照射生成物として、COやCOのほかに、有機化合物としてギ酸やジメチルスルフォキシド,極微量のメタノールやジメチルスルフォンを同定した。これらの照射生成物を含むガスをオゾン分解触媒であるMnO層に通過した結果、初期濃度10.6ppmvのDMSの場合に6.3kGyにおいて照射のみで41%であった無機化率を100%にすることに成功した。また同4.6ppmv, 3kGyで25%であった無機化率についても同様の結果が得られた。本研究の結果から、臭気物質の分解・脱臭においては電子ビームと触媒の併用プロセスが有効であることを明らかにした。
箱田 照幸; 島田 明彦; 松本 加奈江*; 広田 耕一
Plasma Chemistry and Plasma Processing, 29(1), p.69 - 78, 2009/02
被引用回数：6 パーセンタイル：26.84(Engineering, Chemical)本研究では、水分を含む窒素ガスに、最大10kGyで電子ビーム照射した際に生成するOHラジカルの量を、OHラジカルとCOとの反応により生成するCO濃度から評価した。OHラジカルは、水分子と窒素ガスの電子ビーム照射により生じる窒素イオンとの反応で生成するため、事前に10kGy以下の線量でOHラジカルの生成に必要な水分濃度や、このOHラジカルの補足に必要なCO濃度を調べた。その結果、水分濃度は6000ppmv以上,CO濃度は2000ppmv以上が必要であることがわかった。この条件でCO濃度を測定した結果、CO濃度は線量に対して比例関係があり、この傾きから求めたOHラジカルの生成のG値は4.9であることを明らかにした。
Ostapczuk, A.*; 箱田 照幸; 島田 明彦; 小嶋 拓治
Plasma Chemistry and Plasma Processing, 28(4), p.483 - 494, 2008/08
被引用回数：16 パーセンタイル：53.46(Engineering, Chemical)石炭火力発電所からの排ガス中に含まれる典型的な多環芳香族有機物として、ナフタレンやアセナフテンの電子ビームプラズマによる分解挙動を調べた。その結果、ナフタレン及びアセナフテンの分解のG値はそれぞれ1.66及び3.72であり、分解生成物としてはCOやCOに加えてベンゼン環を1個有する芳香族有機物が生じることを明らかにした。
前原 常弘*; 宮本 一平*; 黒河 賢哉*; 橋本 幸生*; 岩前 敦; 倉本 誠*; 山下 浩*; 向笠 忍*; 豊田 洋通*; 野村 信福*; et al.
Plasma Chemistry and Plasma Processing, 28(4), p.467 - 482, 2008/08
被引用回数：54 パーセンタイル：87.7(Engineering, Chemical)Radio frequency (RF) plasma in water was used for the degradation of methylene blue. The fraction of decomposition of methylene blue and the intensity of the spectral line from OH radical increased with RF power. RF plasma in water also produced hydrogen peroxide. The density of hydrogen peroxide increased with RF power and exposure time. When pure water (300 mL) is exposed to plasma at 310 W for 15 min, density of hydrogen peroxide reaches to 120 mg/L. Methylene blue after exposed to plasma degraded gradually for three weeks. This degradation may be due to chemical processes via hydrogen peroxide and tungsten. The comparison between the experimental and calculated spectral lines of OH radical (A-X) shows that the temperature of the radical is around 3,500 K. Electron density is evaluated to be 
3.5
10
m
from the stark broadening of the H
line.
under electron beam irradiation箱田 照幸; 松本 加奈江; 水野 彰*; 小嶋 拓治; 広田 耕一
Plasma Chemistry and Plasma Processing, 28(1), p.25 - 37, 2008/02
被引用回数：22 パーセンタイル：63.74(Engineering, Chemical)塗料工場からの換気ガスに含まれる芳香族有機化合物の分解、並びに分解生成物の選択的なCOへの酸化を目的として、電子ビーム照射と触媒との併用による換気ガスの無害化処理技術の開発を進めている。本研究では、水溶性を有する副生成物の酸化促進を目的として、数十ppmvのキシレンを含む空気に線量10kGyで電子ビーム照射し、照射空間あるいは非照射空間に導入した親水性表面を有するTiO触媒との併用によるキシレンやその照射生成物の酸化分解挙動を調べた。この結果、TiOを非照射空間に導入することにより高濃度のCOが得られ、この濃度は触媒を併用せずに線量17kGyで照射した場合と同程度であることがわかった。さらに、TiOと同形状の触媒作用を有しないステンレス球を用いて行った照射実験の結果との比較から、照射及び非照射空間におけるTiO表面上の酸化反応を定量した。
